锆粉哪家好
您当前的位置 : 首 页> 攀枝花硅化钛锆铪等
攀枝花二硅化铪 Hafnium silicide(HfSi2)

攀枝花二硅化铪 Hafnium silicide(HfSi2)

  • 所属分类:攀枝花硅化钛锆铪等
  • 浏览次数:
  • 发布日期:2025-04-11 08:59:00
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

HfSi2

产品名称:二硅化铪(HfSi2

规格:0.8-10um(D50)

形貌:不规则

颜色:黑灰色

特点:纯度高、粒度小、分布均匀、比表面积大和表面活性高

用途:金属陶瓷、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域

二硅化铪价格

二硅化铪生产厂家

二硅化铪用途

二硅化铪应用领域

二硅化铪熔点

二硅化铪密度

二硅化铪应用领域

中文名 硅化铪

英文名 Hafnium silicide

化学式: HfSi2

CAS:12401-56-8

EINECS: 235-640-1

密度: 8,02 g/cm3

熔点 :1680°C

分子量 234.66

应用领域:

1. 核工业材料

应用:核反应堆控制棒、中子吸收材料、核废料容器涂层。

依据:铪的中子吸收截面大(约105靶恩),是核反应堆控制棒的理想材料,硅化铪可提升高温稳定性,延长使用寿命。 耐辐射和抗腐蚀性能优异,适合2. 高温结构材料与涂层

应用:航空航天发动机叶片、超音速飞行器热防护层、高温炉内衬。

依据: 硅化铪的熔点高达约2500°C,优于硅化锆,高温抗氧化性更强(尤其在富氧或极端热震环境中)。 作为涂层(如通过CVD/PVD技术),可保护镍基超合金部件免受高温氧化和腐蚀。

3. 半导体与微电子器件

应用:高介电常数栅极材料(替代SiO₂)、集成电路扩散阻挡层。

依据:HfSi₂与硅基底相容性好,可降低界面缺陷,在先进制程中作为高介电常数(high-κ)材料,提升晶体管性能。在铜互连工艺中,作为扩散阻挡层(类似TaN),防止铜原子迁移至硅基底。

4. 耐磨与耐腐蚀涂层

应用:精密刀具涂层、化工设备防腐层、海洋环境抗侵蚀涂层。

依据:

高硬度(约15-20 GPa)和化学惰性,可抵抗酸、碱及盐雾腐蚀。

通过热喷涂或气相沉积技术,延长工具和设备的服役寿命。

5. 热电材料

应用:高温废热发电系统、深空探测器同位素电池。

依据:

硅化铪(如HfSi₂)在一定温度范围内具有较高的热电优值(ZT),可将热能直接转化为电能。

耐高温特性使其适用于极端环境(如航天器尾气余热回收)。

6. 复合材料增强相

应用:陶瓷基复合材料(CMC)、金属基复合材料(MMC)。

依据:

作为增强相加入碳化硅(SiC)或氧化铝(Al₂O₃)基体中,可提高材料的断裂韧性和高温抗蠕变性能。

用于航天器热防护系统(TPS)或高超音速飞行器前缘部件。

7. 新兴领域探索

量子材料:研究硅化铪在拓扑绝缘体或超导材料中的潜在特性。

新能源:作为催化剂载体(如电解水制氢)或固态电池界面层。

光电子器件:探索其在紫外光探测器或光伏材料中的应用。

包装储存:本品为充惰气塑料袋包装,密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜暴露空气中,防受潮发生氧化团聚,影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供分装。

硅化铪


最近浏览:

相关产品

相关新闻

    科技创新 诚信为本

    备案号: 辽ICP备12007334号-2
    技术支持:祥云平台

    公司信息

    联系方式:

    15698999555


    地址:

    锦州市太和区盛华街6号

    Baidu
    map