产品名称：二硅化钕（NdSi₂）

规格：0.8-10um（D50）

形貌：不规则

颜色：黑灰色

特点：光学特性、高热电效率和优异的稳定性

用途：光学、热学、催化剂、材料科学、化学工业、电子工业等领域

中文名称：硅化钕

英文名称：NEODYMIUMSILICIDE

CAS号：12137-04-1

分子式：NdSi2

分子量：200.41

EINECS号：235-234-4

制备工艺：

1） Nd、Si、Hg混合物在石英管中用电炉在约450℃温度下加热10～12h，过量的汞使用弯管蒸馏除去。当汞在管的冷端收集完毕后，在管的热端450～600℃下对产物进行退火处理。

2）按照反应计量关系称取Nd2O3和Si(持续抽气)，在真空条件下于氧化铝舟中进行反应，迅速且完全地除去反应中形成的SiO。反应温度控制在1100～1600℃，超过1600℃时通常由于容器参与反应而混有杂质。

应用：

热电材料

1.能量转换装置：硅化钕可能具备良好的热电性能，可将热能直接转换为电能，应用于工业废热回收或太空探测器的放射性同位素热电发电（RTG）。这类应用依赖于材料的高温稳定性和热电效率。

2. 储氢材料

氢能源技术：某些稀土硅化物因晶格结构适合氢原子吸附，可能作为储氢介质。硅化钕的储氢能力若被验证，可在燃料电池或氢储存系统中发挥作用。

3. 磁性应用

特种磁体：钕以强磁性著称（如钕铁硼磁铁），但硅化钕的磁性能可能不同于纯钕化合物，需具体研究其磁有序结构。潜在用途包括磁性传感器或特定高频应用。

4. 催化领域

化学反应催化剂：稀土元素常作为催化剂，硅化钕可能在有机合成或废气处理中催化特定反应，如甲烷重整或氮氧化物还原。

5. 高温材料

极端环境应用：硅化钕若具有高熔点和抗氧化性，可能用于航空发动机涂层或高温炉部件，但需结合其他材料优化机械强度。

6. 电子器件

半导体工艺：类似其他金属硅化物（如硅化钛），可能作为集成电路中的低电阻接触层或扩散阻挡层，但需验证其与硅基底的兼容性。

7. 核工业

中子吸收材料：钕的中子截面特性可能使硅化钕用于核反应堆的控制组件，但实际应用需考虑辐照稳定性。

存储方法：本品应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果，另应避免重压，勿与氧化剂接触，按照普通货物运输。