镍钒溅射靶材是在制备镍钒合金的过程中,在镍熔体中加入钒,使制备出的合金更有利于磁控溅射,结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点.随着社会的进步和半导体产业的发展,电子及信息、 集成电路、 显示器等产业对镍钒靶材的需求量越来越大.

溅射靶材集中用于信息存储、集成电路、显示器、汽车后视镜等产业,主要用于磁控溅射各种薄膜材料.磁控溅射是一种制备薄膜材料的方法,利用离子源产生的离子,在真空中加速聚集成高速离子流,被加速的粒子流轰击到待沉积薄膜的物体表面,离子和待沉积薄膜的物体表面的原子发生动能交换,在待沉积薄膜的物体表面沉积上了纳米(或微米)薄膜.而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材.

在集成电路制作中一般用纯金作表面导电层,但金与硅晶圆容易生成AuSi低熔点化合物,导致金与硅界面粘结不牢固,人们提出了在金和硅晶圆的表面增加一粘结层,常用纯镍作粘结层,但镍层和金导电层之间也会形成扩散,因此需要再有一阻挡层,来防止金导电层和镍粘结层之间的扩散.阻挡层需要采用熔点高的金属,还要承受较大的电流密度,高纯金属钒能满足该要求.所以在集成电路制作中会用到镍溅射靶材、 钒溅射靶材、 金溅射靶材等.

镍钒溅射靶材是在制备镍钒合金的过程中,在镍熔体中加入钒,使制备出的合金更有利于磁控溅射,结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点,可一次完成溅射镍层(粘结层)和钒层(阻挡层) .镍钒合金无磁性,有利于磁控溅射.在电子及信息产业中,基本替代了纯镍溅射靶材.镍钒合金靶材的特点及应用

镍钒合金靶材主要用于太阳能行业,电子行业等领域.镍钒靶材的应用及要求的纯度如表1所示.

1)光存储.

2)太阳薄膜电池.

3)平板显示器镀膜.

4)电子及半导体领域.

5)建筑玻璃.

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